電動式ナノ位置決めステージ

ストローク: 100 µm
積載量: 21 g

... 全空間方向で最高の剛性を実現するパラレル・キネマティック・デザイン 100gまでの荷重でも高い共振周波数により、非常にダイナミックな動きを実現 革新的な製品設計により、単一の取り付けプラットフォームでフレキシブルに使用可能。 IDチップ機能を搭載した市場で唯一のナノポジショナー 市場最小・最軽量のナノキューブ®、移動範囲100 µm 応用分野 ファイバーの位置決めとアライメント 走査型顕微鏡 2光子重合 ナノテクノロジーおよびナノ製造 フォトニクス／集積光学 マイクロマニピュレーション サンプルの位置決め PICMA®ピエゾアクチュエーターによる優れた寿命 PICMA®ピエゾアクチュエータはオールセラミック絶縁です。これにより、湿度やリーク電流の増加による故障から保護されます。PICMA®アクチュエータは、従来のポリマー絶縁アクチュエータに比べ、最大10倍の長寿命です。1,000億サイクルで1回の故障もないことが証明されています。 静電容量式センサーによるサブナノメートルの分解能 静電容量式センサーは、接触することなくサブナノメートルの分解能で測定します。優れた直線性、長期安定性、kHz帯域幅を保証します。 ゼロプレイフレクシャガイドによる高いガイド精度 フレクシャーガイドは、メンテナンス、摩擦、摩耗がなく、潤滑も不要です。剛性が高いため高負荷容量が可能で、衝撃や振動の影響を受けません。広い温度範囲で使用できます。 自動構成と迅速な部品交換 メカニックとコントローラーは必要に応じて組み合わせることができ、素早く交換することができます。すべてのサーボおよびリニアライゼーションパラメータは、メカニックのD-subコネクタのIDチップに保存されます。 ...

ストローク: 0.4, 0.2, 0.1 mm

... NPXピエゾスタックリニアステージは、コンパクトなパッケージで、1軸、2軸、または3軸の長い移動量とサブナノメートルの分解能のモーションを提供します。高速応答と高速整定性能を特長とし、高周波エラー補正、トラッキング、高速ステッピング、連続スキャンなどの動的プロセスで使用できます。 -サブナノメーターのピエゾ式位置決め分解能 -X、XY、またはXYZでの動作 -最大400 µmのピエゾ移動範囲 -クローズドループ動作のための内蔵ストレインゲージ（オプション -高ダイナミックアプリケーション用の高い共振周波数 -真空バージョンあり 特徴 サブナノメートルの位置決め分解能 NPXピエゾスタックリニアステージは、0.2nmの位置決め分解能を持ち、制御電子機器のノイズによってのみ制限される分解能で超微細な調整が可能です。 大きなピエゾ移動範囲 NPXピエゾスタックリニアステージは、高信頼性、多層、低電圧ピエゾトランスデューサスタックを特徴とし、高デューティサイクルの操作に対応します。洗練されたFEA最適化された平行四辺形ソリッドステートフレクシャーガイドシステムにより、完璧な平行移動と最大400 ...

ストローク: max 16.0 µm

... Piezosystem Jena のPXYシリーズは、圧電式アクチュエータをフレクチャーヒンジシステムに侵入するために使用されるXYナノポジショニングステージです。 これらの組み立てにより、ナノメートル精度の動的条件下でユニットを動作させることができます。 これは、軸あたり約 700ミクロンの走行範囲を備えています。 また、長期的な安定性とサブナノメートル精度のために設計された統合的なフィードバック制御を備えています。 このツールは、光学系、ファイバーの位置決め、レーザー技術、2Dスキャンモーション、自動および電波処理システムなどの特定のアプリケーションに最適です。 ...

ストローク: 1 mm

... DSMのナノ位置決め圧電 ZSA-1000Cステージは、走査、計測、検査プロセスにおいて、1mmの垂直移動範囲にわたって屈曲誘導運動を特長としています。 安定性と剛性の高いキネマティック設計は、最小限のロールとチルトで出力モーションの並列性を促進し、動的な応答性を実現し、優れた位置安定性と制御を実現します。 この段はDSMのSA-500と組み合わせることで、クローズドループ制御に高分解能の静電容量式プローブを使用して、指定されたスキャン領域で20nmの位置安定性と非常に安定した速度プロファイルを提供できます。 ...

ストローク: 100, 200, 300 mm
速度: 5 mm/s
繰返し精度: 0.015 µm - 0.02 µm

... LA97 - 真空リニアステージ・軸 ナノメータリニアステージ HV / UHV 最大 10E-11、移動量 100 - 300 mm、繰り返し精度 0.02 µm、最大荷重 10 kg - 真空：全領域 HV / UHV 最大10E-11 mbar - 潤滑：液体 10E-8 mbar まで / 乾燥 10E-11 mbar まで - 最高温度ベークアウト温度120°C オプションで設定可能 - マグネットタイプ、低マグネットタイプ、マグネットレスタイプがあります。 - 用途に応じた材料選択と真空潤滑方式を採用 - ...

ストローク: 10 mm
速度: 5 mm/s

... - 真空：HV / UHV / EUVの全レンジで10-11 mbarまで対応 - 潤滑油：最大10-8 / ドライ：最大10-11mbar - 最高温度ベークアウト温度120°C - アパーチャー: 80 x 80 mm オプションで設定可能 - 測定システム付きまたは測定システムなし - オプションでリードスクリュー駆動または潤滑式ボールスクリュー駆動による高速化も可能 - 回転アプリケーション用に回転テーブル（例：DT155）との組み合わせが可能 - 用途に合わせた材料選択と真空潤滑方式 - ...