レーザー システム 緑

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パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
NT230

出力: 1,800 W
波長: 192 nm - 2,600 nm

... NT230シリーズは、高エネルギーで広範囲に調整可能なDPSSレーザーシステムで、高度な研究室アプリケーション向けに設計されています。このレーザーは、ダイオードポンプQスイッチNd:YAGレーザーと光パラメトリックオシレーター(OPO)を統合した単一のコンパクトなハウジングで、192〜2600 nmの範囲でギャップのない調整を提供します。100 Hzの繰り返し率を持つNT230シリーズは、レーザー誘起蛍光、フラッシュフォトリシス、フォトバイオロジー、計測、リモートセンシングに最適です。その革新的なダイオードポンプ設計により、フラッシュランプポンプシステムと比較してメンテナンスフリーの操作と安定性の向上が保証されます。システムはキーパッドまたはPCを介してリモートで制御でき、ユーザーフレンドリーなインターフェースとバックライトディスプレイにより、レーザー安全メガネを着用していても簡単にパラメータを調整できます。

特徴

  • 顧客に認められた信頼性
  • 2年間の保証
  • DPSSポンプレーザーとOPOを単一のハウジングに統合
  • 192〜2600
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EKSPLA
パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
NanoFlux AWG

出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm

... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器(AWG)によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。

特徴

  • 高エネルギーナノ秒レーザー
  • 時間的に成形されたパルス
  • 最大10 Jのパルスエネルギー
  • 10 Hzのパルス繰り返し率
  • パルス成形用の任意波形発生器
  • 0.15
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EKSPLA
パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
Intrepid™ series

波長: 532, 1,064 nm

... パルスシェーピング/イントレピッドは、OPCPAアンプのポンピング用に特別に設計された高エネルギーパルスレーザーシステムです。 レーザの出力は、空間的かつ時間的に平坦になるように形成され、波形全体にわたって入力チャープされたパルスを均一に増幅します。 イントレピッドパルスは、シードパルスの歪みを調整するために優先的に強調することができます: リニアランプ、t3、マルチパルスパターンを生成することができます。 イントレピッドは、mJから数百ジュールまでのさまざまな出力エネルギーで提供されています。 ...

連続レーザー システム
連続レーザー システム
FiberFlow

出力: 0 W
波長: 0 nm

... FiberFlowは、1 個、2 個、または3 個のプローブと、小型の空冷または大型の水冷アルゴンイオンレーザで構成できるモジュラーシステムです。 基本的な要素は次のとおりです。 - ビーム分割と周波数シフト光学で構成される送信機-レーザービームを光ファイバーにガイドするためのファイバマニピュレータ -直径 14mmから112mmまでの ファイバーフロー1D、2Dおよび3Dレーザドップラー風速計(LDA)システムファイバーフロー 光学伝送 最小のプローブは直径 14mmで、距離 50mm(空気中)で測定されるため、スペースが制限されている場合や、プローブを流れに直接配置できる場合に使用できます。 ...

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