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出力: 100, 10 W
波長: 355, 266 nm
... 億分の1秒単位で測定されるレーザパルスを利用し、紫外および深紫外ナノ秒パルスレーザは、赤外または可視波長のレーザには適さない用途に使用される。 IPG紫外ナノ秒ファイバーレーザは、他に類を見ないほどコンパクトで信頼性が高く、特殊用途向けに幅広い出力を提供する。 ...
IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
出力: 10 W
波長: 266 nm
... 革新的な非線形結晶技術によって実現されたIPGの深紫外レーザは、比類のない出力信頼性を提供します。IPGの深紫外レーザはユニークな光学材料とコーティングで作られており、何千時間もの信頼性の高い動作を提供します。 深紫外波長は、非金属の微細加工、エレクトロニクス、医療、その他多くの先端アプリケーションを含む様々な用途や産業に最適である ...
IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
出力: 100 W
波長: 193 nm - 10,000 nm
... PGx01シリーズは、高度な分光学および研究用途向けに設計された、高エネルギー、広帯域波長可変ピコ秒光パラメトリック増幅器（OPA）です。Travelling Wave Optical Parametric Generators (TWOPG)は、紫外(UV)から中赤外(Mid-IR)スペクトルにわたる超高速で波長可変なコヒーレント光源を提供し、幅広い科学的調査に理想的です。 アプリケーション
- 非線形分光：振動-SFG、表面-SH、Zスキャン
- ポンプ-プローブ実験
- レーザー誘起蛍光（LIF）
- その他のレーザー分光アプリケーション
- PG401:
EKSPLA
出力: 1,800 W
波長: 192 nm - 2,600 nm
... NT230シリーズは、高エネルギーで広範囲に調整可能なDPSSレーザーシステムで、高度な研究室アプリケーション向けに設計されています。このレーザーは、ダイオードポンプQスイッチNd:YAGレーザーと光パラメトリックオシレーター（OPO）を統合した単一のコンパクトなハウジングで、192〜2600 nmの範囲でギャップのない調整を提供します。100 Hzの繰り返し率を持つNT230シリーズは、レーザー誘起蛍光、フラッシュフォトリシス、フォトバイオロジー、計測、リモートセンシングに最適です。その革新的なダイオードポンプ設計により、フラッシュランプポンプシステムと比較してメンテナンスフリーの操作と安定性の向上が保証されます。システムはキーパッドまたはPCを介してリモートで制御でき、ユーザーフレンドリーなインターフェースとバックライトディスプレイにより、レーザー安全メガネを着用していても簡単にパラメータを調整できます。
特徴
- 顧客に認められた信頼性
- 2年間の保証
- DPSSポンプレーザーとOPOを単一のハウジングに統合
- 192〜2600
EKSPLA
出力: 1,500 W
波長: 335 nm - 2,600 nm
... NT250シリーズは、高い信頼性と高度な科学的応用のために設計された、波長可変UV-NIR範囲のDPSSレーザーシステムです。ナノ秒光パラメトリックオシレーター（OPO）とダイオードポンプ固体（DPSS）Qスイッチポンプレーザーを統合した単一のコンパクトなハウジングで、335〜2600 nmのハンズフリーでギャップのないチューニングを提供します。1000 Hzの繰り返し周波数とNIRでの1.1 mJ以上の出力パルスエネルギーを備えたNT250シリーズは、光音響イメージングやレーザー誘起蛍光分光法などのアプリケーションに最適です。
特徴
- 顧客に認められた信頼性
- 2年間の保証
- DPSSポンプレーザーとOPOを単一のハウジングに統合
- 乾燥、内部に水なし
- 335〜2600
EKSPLA
出力: 18 W - 80 W
波長: 355 nm - 1,064 nm
... Atlanticシリーズは、R&Dラボや産業環境での幅広い材料加工アプリケーション向けに設計された高出力産業用ピコ秒レーザーです。これらの水冷レーザーは高エネルギーと高出力を提供し、LCDやOLEDディスプレイの切断や穴あけ、レーザー誘起前方転送（LIFT）、ガラスやサファイアの加工、超硬材料のマイクロマシニング、金属のアブレーション、ポリマーの切断と穴あけ、シリコンのスクライブ、太陽電池のスクライブなどの要求の厳しい作業に適しています。
特徴
- 1064
EKSPLA
出力: 600 W
波長: 213, 266, 355, 532, 1,064 nm
NL200シリーズは、kHzの繰り返し周波数で高いパルスエネルギーを実現するために設計された、コンパクトで空冷のQスイッチDPSSナノ秒レーザーです。そのエンドポンプ設計により、コンパクトさとさまざまな産業および研究開発用レーザー機器への容易な統合が保証されます。短いナノ秒パルス持続時間、可変繰り返し周波数、および外部TTLトリガーを備えたNL200シリーズは、材料加工、LCDおよびOLEDディスプレイパネルの修理、アブレーション、マーキング、彫刻、レーザークリーニング、レーザー堆積など、より高いパルスエネルギーを必要とするアプリケーションに最適でコスト効果の高いソースです。このレーザーは、532 ...
EKSPLA
出力: 5,000, 6,000, 8,000 W
波長: 266, 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux SLMシリーズは、高エネルギーで単一モード（SLM）のQスイッチNd:YAGレーザーで、要求の厳しいアプリケーション向けに設計されています。これらのエレクトロオプティカルQスイッチナノ秒レーザーは、パルスあたり最大10 Jを提供し、OPO、OPCPA、または色素レーザーのポンピング、ホログラフィー、LIF分光法、リモートセンシング、光学試験などに適しています。
特徴
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 2〜25 nsのパルス持続時間
- 10
EKSPLA
出力: 6,000, 20,000, 10,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
NanoFlux HPシリーズは、高エネルギーパルスを高繰り返し率で提供するように設計された高出力ダイオードポンプナノ秒増幅器システムです。これらの電気光学的Qスイッチナノ秒Nd:YAG増幅器システムは、業界で実証済みの技術に基づいており、均一なビームプロファイルと低い発散を持つ高強度、高輝度のパルスを必要とするアプリケーションに適しています。システムは、顧客のシードソースの統合、マルチチャネル出力、バースト増幅など、特定の要件に合わせてカスタマイズできます。マスターオシレーターは数ナノ秒の短いパルスを生成でき、パワーアンプは空間ビーム成形を使用してスーパーガウス出力ビームプロファイルを実現します。温度安定化ヒーターを備えた高調波ジェネレーターは、2次および3次高調波生成のために利用可能で、高いスペクトル純度を保証します。システム制御は、コントロールパッド、USB、LAN、およびオプションでRS232を介して可能で、Windows用の専用ソフトウェアが付属しています。NanoFlux ...
EKSPLA
出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器（AWG）によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。
特徴
- 高エネルギーナノ秒レーザー
- 時間的に成形されたパルス
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 10 Hzのパルス繰り返し率
- パルス成形用の任意波形発生器
- 0.15
EKSPLA