工業用レーザー光源

出力: 12 W - 14 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 製品
CO₂レーザー — HFC Series Laser

機械の特長

• 空冷設計によりチラーコストを低減
• 統合されたコンパクト共振器で据付・保守を簡素化
• ジャックスクリュー調整付き金属密封エンドプレートにより高い信頼性と操作性を実現
• 高品位の防塵構造と高品質コンポーネントを採用
• 過電圧・低電圧保護付きDC電源
• 微細な加工ラインと狭い溶着エッジにより幅広い産業応用が可能

• 非金属材料のマーキングおよびデグミング
• 3C部品表面の変色除去
• 電子部品・セラミックのスクライブ（刻印）
• プラスチックフィルムの切断および配線の被覆剥離
• PCBのQRコードマーキング
• 段ボール・飲料パッケージのマーキング
• 微細マーキング、デグミング、バリ取り

• HLC

出力: 10, 50 W
波長: 257, 343 nm

... 概要
完全に統合されたアライメントフリーの高調波発生器を採用したIPGのUV超短パルスファイバーレーザは、各種ポリマーや非金属の微細加工に用いられます。超短パルス（ピコ秒／フェムト秒）と紫外波長の組み合わせにより、過剰な入熱が許容できない切断、マーキング、アブレーションの熱影響が最小化されます。

製品概要
ULPP-257-R（deep UV）およびULPF/ULPP-Rシリーズとして提供されるこれらのファイバーレーザは、非常に小さいスポットサイズ、高い精度、および自動化生産ラインに適した産業用統合を特徴とします。

主なハイライト

• 平均出力（ファミリー）：最大30

出力: 3 W - 20 W
波長: 514 nm - 1,032 nm

... 製品概要
JPT-LIT 20 はパッシブ空冷方式のコンパクトなフェムト秒超高速レーザーで、産業用マイクロ加工、半導体プロセス、科学用途向けに設計されています。400 fs～4 ps の超短パルス、可変繰り返し周波数、および安定したビーム特性を備えています。オプションの二次高調波（SH）モジュールにより 515 nm 出力が利用可能です。

主な特長

• ファンレスのパッシブ空冷設計により保守負荷を低減し、クリーンルーム互換性を確保
• IP51

出力: 100 W
波長: 1,060, 1,080 nm

... 空冷式100W MOPA Puise ファイバー・レーザー・ソースは、マーキング、彫刻、切断、溶接、穴あけ、クリーニング、テクスチャリングなど、幅広い産業用途向けに設計されています。 代表的な用途 - 材料除去なしの高品質表面マーキング - アルミニウムへの白黒マーキング - ステンレス鋼およびチタンへのカラーマーキング - 合金やポリマーへの精密深彫り彫刻 - 表面テクスチャリングと表面処理 - 精密切断と穴あけ ハイライト - 波長: 1060 - 1080nm - 平均出力：100W - ...

出力: 100 W - 20,000 W

... 概要
TRUMPF TruFlow は産業用材料加工向けの連続波（CW）CO2レーザソースです。波長 10.6 μm。連続可変の出力バリエーションは 100 W から 20 000 W まであり、金属、有機材料、複合材、ガラスの切断・溶接・表面処理に対応します。

主な特長

• 機械的・熱的安定性を得るスクエア共振器設計。
• 冷却設計とエネルギー管理の最適化による高効率。
• ガス循環および高周波励起の摩耗低減設計で長いメンテナンス間隔を実現。
• 光学系を保護するカプセル化されたビームガイドと統合光学部品でビーム品質を維持。
• 温度および汚染度の連続監視による安定運転。

• 薄板・厚板の切断
• 深溶融を含む溶接
• 表面処理
• 連続で非多孔質のシームを得るパイプ・プロファイルの溶接
• ディファレンシャルギア等の溶接
• CFRP