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... A deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD) é um processo que utiliza a energia de um plasma para acelerar as reacções químicas na superfície da bolacha e produzir películas finas a temperaturas inferiores a 400°C. O bombardeamento de ...
KLA Corporation
... ·A camada de óxido do túnel, a camada i-poly e a camada D-poly podem ser revestidas no mesmo tubo do forno, o que contribui para reduzir as etapas do processo, melhorar o rendimento e diminuir eficazmente a taxa de quebra; ·Sem efeitos de parede quente, ...
Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
... Ao injectar um precursor no plasma pós-descarga, a ULCoat deposita camadas finas sobre a superfície tratada. O ULCoat é um sistema que vaporiza e injecta um precursor sob o bico de plasma. O ULCoat é utilizado em conjunto com um gerador OMEGA ULS. A ...
... MCVD é a abreviatura de Modified Chemical Vapor Deposition, que se traduz como uma melhor deposição química de vapor. O método de produção de haste pré-fabricada foi proposto pela primeira vez pelos Laboratórios Bell nos Estados Unidos e Universidade ...
A máquina RTFCV é um sistema de pulverização em lote, que pode depositar vários revestimentos duros, revestimentos macios, filmes compostos e filmes lubrificantes sólidos nos substratos de materiais metálicos e não metálicos. Aplicado a indústrias de ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Máquina de revestimento a vácuo de estrutura de poliedro de sistema de deposição de filmes ópticos PECVD e Magnetron A máquina Multi950 é um sistema personalizado de deposição a vácuo de múltiplas funções para P&D. Com a discussão de meio ano com a ...
Shanghai Royal Technology Inc.
FCV é o nome curto de quadros de espetáculo, ele é a tecnologia a mais nova para a próxima geração de carros verdes. Pode gerar a energia elétrica continuamente pela reação eletroquímica entre o oxigênio e o hidrogênio. É diferente da bateria preliminar ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Desempenho de ponta com a máxima eficiência de capital e poupança de pegada O EPIK® 868 da Veeco é o sistema MOCVD de maior desempenho da indústria de LEDs que permite uma uniformidade e repetibilidade superiores com baixa defectividade. Disponível em ...
VEECO
... LEYBOLD OPTICS DLC é um sistema de deposição de vapor químico (PECVD) reforçado por plasma de alto vácuo para a aplicação de revestimentos anti-reflexo (AR) usados principalmente em aplicações de infravermelho (IR) para sistemas de imagem térmica. Líderes ...
Bühler Leybold Optics
... Equipamento de revestimento de investigação científica O equipamento experimental de revestimento a vácuo tem as características de bela aparência, estrutura compacta, desempenho diverso, operação simples e confiável e baixo consumo de energia. Pode ...
... O Voyager PIB-CVD é um sistema de Deposição de Vapor Químico (PIB-CVD) assistido por feixe de iões de plasma, construído em torno da Fonte de Iões RF Endeavor sem filamentos. Esta fonte de iões patenteada, por concepção, tem controlo independente tanto ...
... Ideal para testes de laboratório e produção industrial de pequenas peças Equipamento versátil com possível actualização para configuração de Multilayer Perfeitamente adequado para: Pequenos e médios componentes (por exemplo, em electrónica, aplicações ...
COMELEC
... A produção comprovada Titan Deposition é um sistema de deposição sem carga com um elevador de cassete a vácuo. Pode ser configurado para PECVD, HDCVD, PVD ou ALD. O Titan Deposition oferece processos inovadores e de vanguarda em uma pegada pequena a um ...
Trion Technology
... Uma camada de película antirreflexo de nitreto de silício (SixNy) com uma espessura de cerca de 75-140nm é depositada na superfície da bolacha de silício Uma camada de película de nitreto de silício antirreflexo (SixNy) com uma espessura de cerca de ...
... Introdução do produto: A função do sistema de deposição de vapor químico é depositar películas finas no substrato, melhorar as propriedades do material, fabricar dispositivos funcionais, conseguir a modificação da superfície, controlar com precisão a ...
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