Sistema avançado de corte e ranhura a laser
O ALSI LASER1205 é um sistema a laser de alta precisão concebido para o corte completo e a ranhura de pastilhas semicondutoras. Desenvolvido pela ASMPT ALSI, este sistema integra tecnologia laser avançada com capacidades de elevado rendimento, oferecendo uma solução fiável para ambientes de fabrico exigentes.
Principais vantagens do LASER1205
Corte ultrapreciso: precisão posicional e reprodutibilidade <1,5 µm
Impacto térmico mínimo: Zona Afectada pelo Calor (HAZ) <2 µm
Largura de corte estreita: <12 µm para processamento com feixes múltiplos em silício de 100 µm
Elevado rendimento: até 50% mais rápido do que os sistemas concorrentes
Manuseamento flexível de materiais: compatível com Si, SiC, GaAs, Ge, DAF, moldes e muito mais
Visão em linha e verificação do corte: Monitorização em tempo real «On-the-Fly»
Cassetes duplas e estações de limpeza: Operação contínua com tempo de inatividade mínimo
Aplicações
A LASER1205 foi concebida para uma vasta gama de processos de semicondutores:
Corte de wafer: Espessura de 10 µm a 300 µm
Ranhura e escavação: Para Low-K, PI, TEG e outros materiais avançados
Processamento a laser multifeixe: configurações UV e IR
Visão e monitorização em linha: garantem qualidade e precisão consistentes
Configurações da máquina
As nossas máquinas a laser LASER1205 são líderes em qualidade e reduzem o seu custo de propriedade. O nosso portfólio está orientado para os desafios específicos dos mercados, tanto para empresas OSAT como para as principais empresas IDM.
---