Sistema de laser pulsado NL200
de nanossegundosQ switchde estado sólido

Sistema de laser pulsado - NL200 - EKSPLA - de nanossegundos / Q switch / de estado sólido
Sistema de laser pulsado - NL200 - EKSPLA - de nanossegundos / Q switch / de estado sólido
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Características

Modo de funcionamento
pulsado, de nanossegundos, Q switch
Tecnologia
de estado sólido
Espectro
infravermelho, visível, ultravioleta
Aplicações
de gravação, de marcação, para espectroscópio, para o fabrico de aparelhos, para transformação de material, para linha de produção, para pesquisa, LiDAR, de microscopia, de bombeamento
Outras características
compacto, mini, refrigerado a ar, selado, DPSS
Potência

600 W

Comprimento de onda

213 nm, 266 nm, 355 nm, 532 nm, 1.064 nm

Descrição

A série NL200 é um laser de nanosegundos DPSS comutado por Q, compacto e refrigerado a ar, projetado para alta energia de pulso em taxas de repetição em kHz. Seu design bombeado pela extremidade garante compacidade e fácil integração em diversos equipamentos laser industriais e de P&D. Com curta duração de pulso em nanosegundos, taxa de repetição variável e disparo TTL externo, a série NL200 é uma fonte excelente e econômica para aplicações que exigem maior energia de pulso, como processamento de materiais, reparo de painéis de exibição LCD e OLED, ablação, marcação, gravação, limpeza a laser e deposição a laser. Este laser pode ser equipado com módulos de geração harmônica para comprimentos de onda de 532 nm, 355 nm, 266 nm e 213 nm, tornando-o uma ferramenta versátil para espectroscopia, imagem fotoacústica e sensoriamento remoto. O design mecanicamente estável e hermeticamente selado garante operação confiável e longa vida útil dos componentes.

Características
  • Confiabilidade reconhecida pelos clientes
  • Dois anos de garantia
  • Até 4 mJ de energia de pulso a 1064 nm
  • Taxa de repetição variável até 2500 Hz
  • Comprimentos de onda de 532 nm, 355 nm, 266 nm, 213 nm como opções padrão
  • Duração de pulso <10 ns a 1064 nm
  • Comutação Q eletro-óptica
  • Operação chave na mão
  • Cavidade selada robusta
  • Tamanho compacto
  • Simples e robusto
  • Refrigerado a ar
  • Disparo TTL externo
  • Controle remoto via teclado e/ou qualquer controlador rodando em qualquer sistema operacional usando comandos API REST

Aplicações
  • Processamento de materiais
  • Reparo de painéis de exibição LCD e OLED
  • Marcação
  • Microusinagem
  • Gravação
  • Deposição a laser
  • Limpeza a laser
  • Ablação
  • Espectroscopia
  • Bombeamento OPO
  • Sensoriamento remoto

Benefícios
  • Ajuste contínuo da taxa de repetição mantendo constante a energia de pulso, estabilidade superior de apontamento do feixe e de energia para aplicações de microusinagem, marcação, remoção de filmes finos
  • Perfil de feixe suave próximo ao Gaussiano com valor baixo de M² < 1.3 e boa capacidade de foco, benéfico para reparo de displays LCD e OLED
  • Compacidade e leveza para fácil transporte e economia de espaço
  • Seleção rápida de comprimento de onda para aplicações que exigem comprimentos de onda alternados, como ablação de materiais e LIBS
  • Refrigeração a ar, tecnologia de bombeamento pela extremidade confiável, design DPSS sem amplificador para fácil operação, alinhamento, instalação e baixo custo de propriedade
  • Variedade de interfaces de controle (USB, RS232, LAN, WLAN) para fácil integração com equipamentos de laboratório ou OEM

Especificações
  • Energia de pulso (a 1064 nm): NL201: 0.9 mJ, NL202: 2.0 mJ, NL204: 4.0 mJ
  • Energia de pulso (a 532 nm): NL201: 0.3 mJ, NL202: 0.9 mJ, NL204: 2.0 mJ
  • Energia de pulso (a 355 nm): NL201: 0.2 mJ, NL202: 0.6 mJ, NL204: 1.3 mJ
  • Energia de pulso (a 266 nm): NL201: 0.08 mJ, NL202: 0.2 mJ, NL204: 0.6 mJ
  • Energia de pulso (a 213 nm): NL201: 0.04 mJ, NL202: 0.1 mJ, NL204: 0.2 mJ
  • Estabilidade de energia de pulso (Desvio padrão): a 1064 nm: <0.5%, a 532 nm: <2.5%, a 355 nm: <3.5%, a 266 nm: <4%, a 213 nm: <5%
  • Duração típica do pulso: 7–10 ns
  • Deriva de potência: ±2%
  • Taxa de repetição de pulso: NL201: 0–2500 Hz, NL202/NL204: 0–1000 Hz
  • Perfil espacial do feixe: próximo ao Gaussiano em campos próximos e distantes
  • Elipticidade: 0.9–1.1 a 1064 nm
  • M²: <1.3
  • Divergência do feixe: <3 mrad
  • Polarização: linear
  • Diâmetro típico do feixe: 0.7 mm
  • Estabilidade de apontamento do feixe (RMS): ≤10 µrad
  • Jitter óptico (Desvio padrão): <0.5 ns
  • Tamanho da cabeça do laser (L × C × A): 164 × 320 × 93 mm
  • Unidade de alimentação (L × C × A): 470 × 390 × 140 mm
  • Comprimento do umbilical: 3 m
  • Refrigeração: refrigerado a ar
  • Temperatura ambiente: 18–30 °C
  • Umidade relativa: 20–80% (sem condensação)
  • Requisitos de energia: 100–240 V AC, monofásico, 50/60 Hz
  • Consumo de energia: <600 W
  • Limpeza da sala: não pior que ISO Classe 9

Nota
  • O laser deve estar conectado à eletricidade principal o tempo todo. Se desconectado por mais de 1 hora, são necessárias algumas horas de aquecimento antes de ligá-lo.

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.