O S+ iStack™ foi projetado para aplicações de alta qualidade em epóxi e filme, com flexibilidade de processo para suportar aplicações de memória e imagem. Seus recursos aprimorados de processo incluem o processo de face para baixo, UV In-Situ e mecanismo de detecção de força de ligação, proporcionando melhoria de produtividade e desempenho.
Características & Opções
Kit de alta precisão (5 μm)
Kit de manuseio de substrato fino (< 100 μm)
Funções de mapeamento (Substrato / Wafer)
Kit de remoção de contaminação de wafer / substrato
Kit OHT / AGV
Kit SMEMA
UV (In-Situ / Post-Bond)
Kit de monitorização da contaminação da ferramenta
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