Sistema de metrologia para wafers IMPULSE V

para semicondutores

Plataforma metrológica integrada alimentada por soluções ópticas e de aprendizagem de máquinas líderes na indústria, combinando alta sensibilidade com elevado rendimento para aplicações CMP, deposição, etch e litho. Visão Geral do Produto Sistema IMPULSO V Com tolerâncias mais apertadas de wafer-to-wafer e de uniformidade dentro do wafer, estão a ser utilizados sistemas de metrologia integrados em várias etapas de processamento de semicondutores. Com base em tecnologia óptica de alta resolução comprovada, o sistema IMPULSE V proporciona maior sensibilidade às medições de resíduos de película fina durante o processo CMP. A plataforma IMPULSE ostenta o hardware mais fiável da indústria com as melhores métricas de fiabilidade e produtividade da classe. Este sistema IMPULSE V da próxima geração alarga esta fiabilidade a um rendimento significativamente superior, mantendo-se em sincronia com a necessidade de medições mais elevadas de amostragem, in-die / on-device e wafer edge. A óptica avançada e a câmara de medição especificamente concebida oferecem uma melhoria significativa na relação sinal/ruído (SNR), alcançando uma melhoria >2X na precisão em relação à geração anterior de metrologia integrada. A aprendizagem da máquina a bordo utiliza a SNR adicional para completar este poderoso pacote, permitindo um tempo de resolução mais rápido, bem como o preenchimento da lacuna em camadas que anteriormente não eram mensuráveis pelo conjunto de ferramentas existente. O sistema IMPULSE V e o sistema Atlas V formam uma solução abrangente de medição de película fina e de dimensão crítica óptica para fabrico de semicondutores, permitindo um maior rendimento através da transmissão de informação com uma troca de receitas e de dados sem descontinuidades.