Sistema de metrologia para semicondutores Aspect®

O novo sistema de metrologia Aspect é uma plataforma óptica revolucionária que foi concebida para os desafios actuais e futuros dos dispositivos avançados 3D NAND. Visão Geral do Produto A densidade de memória aumenta com a escala de pares de camadas e o empilhamento de camadas para pilhas de memória bem acima de 200 pares. O sistema de metrologia Aspect foi concebido tendo em mente estas arquitecturas futuras e estratégias de escalonamento. A Aspect metrology está a demonstrar um desempenho superior aos sistemas de raios X em múltiplos dispositivos de clientes através de um revolucionário sistema óptico infravermelho que fornece uma capacidade total de definição de perfis para permitir a gravação e o controlo de deposição críticos, com a velocidade e a cobertura do processo que os clientes exigem. O sistema Aspect é alimentado por um poderoso motor de análise de software, tecnologia AI-Diffract™, que fornece até 90% mais rápido de tempo para a solução, o que alarga o software NanoDiffract®, líder na indústria, ao alavancar extensas capacidades de aprendizagem de máquinas, juntamente com modelagem de alta fidelidade. O resultado é uma melhoria simultânea no desempenho da metrologia, juntamente com um tempo significativo de redução da solução. Aplicações - Etch, limpa, e deposição para Gen7 3D NAND e mais - Etch e implante para CIS - Etch e implante para DRAM - Caracterização de materiais no dispositivo para lógica avançada