Alvo de pulverização de tungstênio

Visão geral do produto
Os alvos de pulverização tungsténio‑níquel (W–Ni) são concebidos para a produção de camadas eletrocrómicas em vidros inteligentes. São usados em pulverização reativa para formar filmes de óxido de tungsténio e óxidos de ligas de tungsténio, que são transparentes em repouso e tornam‑se azuis ao aplicar tensão contínua. A dopagem do óxido de tungsténio com elementos como Ni, Mo, Ti ou Ta permite ajustar resistividade, tempo de comutação e propriedades ópticas da camada eletrocrómica.

Principais benefícios

• Elevada pureza: > 99,97 % (3N7)
• Microestrutura homogénea e composição química uniforme
• Conteúdo de liga (Ni) ajustável conforme especificação

Limitações dos alvos tradicionais e consequências
Alvos fabricados por processos convencionais (spray térmico ou fundição) frequentemente apresentam distribuição desigual de níquel e densidades materiais tipicamente < 95 % da densidade teórica. A distribuição não homogénea de Ni pode originar regiões de níquel livre ferromagnético, causando taxas de pulverização irregulares e variações na composição dos filmes depositados. A baixa densidade também limita a espessura utilizável do alvo, aumentando a frequência de substituição em produção.

Nossa solução e vantagens técnicas
Fabricamos alvos W–Ni por metalurgia do pó (processo completo interno, desde o pó até o produto acabado) para obter microestrutura homogénea e densidade elevada (> 95 % da densidade teórica). Isso permite produzir alvos utilizáveis até 18 mm de espessura, melhorando a durabilidade e a vida útil no processo de revestimento e reduzindo a necessidade de substituições frequentes.

Microestrutura e distribuição do níquel
Micrografias ópticas mostram tungsténio puro (cinzento‑escuro) embutido numa matriz homogénea tungsténio‑níquel. Não se detectam níquel livre nem fases ferromagnéticas. O teor de níquel está distribuído de forma muito uniforme, com flutuações limitadas a ±0,5 % em massa em torno do valor alvo.

Tabela – Principais propriedades dos nossos alvos W–Ni
Densidade (a 20 °C): ≥ 95 % da densidade teórica
Pureza: > 99,97 % em massa (3N7)
Homogeneidade da distribuição de Ni: < ±0,5 % em massa
Teor de níquel: 25–55 % em massa (configurável)
Microestrutura: grão fino e uniforme

Características / especificações técnicas

• Composição: liga tungsténio‑níquel (W–Ni), teor típico de Ni 25–55 % em massa
• Pureza do material: > 99,97 % (3N7)
• Densidade (20 °C): ≥ 95 % da densidade teórica
• Microestrutura: grão fino e homogéneo; ausência de níquel livre/fases ferromagnéticas
• Homogeneidade do teor de Ni: variação ≤ ±0,5 % em massa em torno do valor alvo
• Processo de fabrico: metalurgia de pós, controlo interno completo desde o pó até ao produto acabado
• Espessura utilizável recomendada: até 18 mm (material denso)
• Vantagens na produção: taxa de pulverização estável, composição uniforme dos filmes depositados, maior vida útil do alvo