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パルスレーザー光源 VLM/VLR
ナノ秒準連続波ファイバー

パルスレーザー光源 - VLM/VLR - IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス - ナノ秒 / 準連続波 / ファイバー
パルスレーザー光源 - VLM/VLR - IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス - ナノ秒 / 準連続波 / ファイバー
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特徴

操作方法
パルス, ナノ秒, 準連続波
光源
ファイバー
スペクトル
可視, 緑, 調整可能波長
応用
マーキング, ドリル, マイクロマシニング用, 医療用, 研究開発用
その他の特徴
高出力, 空冷式, 水冷式
出力

30 W, 50 W, 75 W, 100 W, 1,000 W

波長

最少: 517 nm

最大: 642 nm

詳細

概要
10億分の1秒単位で測定されるレーザパルスを利用し、緑色および可視波長のナノ秒ファイバーレーザは、マイクロ加工や非金属材料に対する精密な材料応答を提供します。IPGのファイバーレーザ技術は、波長やパルス持続時間を設定可能なモジュール式およびラック式ソリューションを提供し、産業用途への組込みと生産対応を支援します。

用途
  • 高速度マイクロ加工およびポリマー、ガラス、セラミックの精密切断
  • PCBの切断・マーキング、抵抗器トリミング、スクライブ
  • 透明材料や繊細な表面のマーキング
  • 非金属材料(シリコン、OLED基板など)のドリル、テクスチャ、マイクロ構造形成
  • 銅の積層造形およびレーザ焼結
  • ウェハーやOLEDのアニール、太陽電池プロセス(PERCコンタクト開口、選択エミッタ)
  • 医療、科学、先端製造用途


特長
  • 緑色~可視波長域をカバー:典型的に517~642 nm(モデルにより異なる)
  • 平均出力は低出力ファミリから准CW/高出力モデルで最大1 kWまでスケーラブル
  • パルス幅はファミリにより約1 ns~1000 nsまで対応;BurstやQCWオプションあり
  • 短パルスで高ピーク出力を実現し、熱影響領域を低減
  • モジュールおよびラック形状で、パルスエネルギー、繰返し率、波長などのパラメータを構成可能


マーキングとマイクロ加工
可視域の短い波長とナノ秒パルスにより、多くの非金属材料で熱影響域が小さく効率的に吸収され、マーキング、切断、スクライブ、銅の焼結などでエッジ品質や微細解像度が向上します。

注意
提供ファミリには低出力パルス(10–30 W)、中出力(50–75 W)、高出力(75–100 W)、准CW/高出力モデルおよび可視ナノ秒モジュールが含まれます。仕様の一部は暫定値です。IPGは用途に応じたカスタム仕様を提供可能で、地域による供給状況が異なる場合があります。

特長 / 技術仕様
  • 波長:典型範囲 517~642 nm;例:532 nm、517 nm、525–642 nm
  • 平均出力:最大1 kW(准CW/高出力モデル);例:30 W、75 W、100 W、50 W(可視モジュール)
  • パルス持続時間:約1 nsまで(選択モデル);例:1.5 ns、1–200 ns、20–1000 ns、約1.2 ns、4.5 ns
  • パルスエネルギー:ファミリ毎の例 — 低出力で単発約18 μJ(バーストで最大70 μJ);中出力50–700 μJ;高出力100–500 μJ;高繰返し/准CWモジュールは数μJ
  • 繰返し率:10 kHz~数MHz(例:10–3500 kHz;QCWは約25–250 MHz;一部可視モジュールは>10 MHz)
  • ビーム品質:一部モデルでM2 <1.2;一部で<1.6;可視モジュールはBPP <6 mm·mrad(仕様による)
  • 冷却方式:モデルにより空冷または水冷;多くのパルスモジュールは空冷
  • パッケージ:モジュールおよびラック式;統合と生産向けにパラメータを構成可能

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。