クロスローラーナノ位置決めステージ

ストローク: 100, 200, 300 mm
速度: 5 mm/s
繰返し精度: 0.015 µm - 0.02 µm

... LA97 - 真空リニアステージ・軸 ナノメータリニアステージ HV / UHV 最大 10E-11、移動量 100 - 300 mm、繰り返し精度 0.02 µm、最大荷重 10 kg - 真空：全領域 HV / UHV 最大10E-11 mbar - 潤滑：液体 10E-8 mbar まで / 乾燥 10E-11 mbar まで - 最高温度ベークアウト温度120°C オプションで設定可能 - マグネットタイプ、低マグネットタイプ、マグネットレスタイプがあります。 - ...

ストローク: 10 mm
速度: 5 mm/s

... - 真空：HV / UHV / EUVの全レンジで10-11 mbarまで対応 - 潤滑油：最大10-8 / ドライ：最大10-11mbar - 最高温度ベークアウト温度120°C - アパーチャー: 80 x 80 mm オプションで設定可能 - 測定システム付きまたは測定システムなし - オプションでリードスクリュー駆動または潤滑式ボールスクリュー駆動による高速化も可能 - 回転アプリケーション用に回転テーブル（例：DT155）との組み合わせが可能 - 用途に合わせた材料選択と真空潤滑方式 - ...

ストローク: 10 mm
速度: 5 mm/s

... クロスローラベアリングとピエゾモータを採用した、ナノメートル領域でのステップ動作が可能なマイクロステージです。 高分解能マイクロステージ Steinmeyer Mechatronik製品群の中で最小のステージは、非常に高い解像度を提供します。その小型化設計により、スペース要件が制限され、高水準が要求されるアプリケーションに最適です。 ピエゾモーターによる最適なステップサイズ MT53は、クロスローラベアリングとピエゾモータを搭載しており、ナノメートル領域でのステップを可能にします。真空および非磁性体バージョンでは、このマイクロステージは厳しい環境での使用に完全に適しています。 マイクロマシニングとマイクロアセンブリに理想的なステージ MT53は、要求の厳しいマイクロマシニングやマイクロアセンブリの用途に使用することができます。また、研究開発用途や半導体産業にも理想的な配置が可能です。 ...