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... 半導体産業チェーンの中流ウェハー製造企業や下流のパッケージング・テスト企業向けに、独自に開発した多チャンネル明視野・暗視野平行検出システムを採用し、半導体ウェハーや結晶粒の外観欠陥をグラフィックで検出する。 製品の利点 - 豊富なサイズバリエーション 本装置は、4～8インチのパターン付きウェハーに対応可能。 - 様々な欠陥を検出可能 スクラッチ、裏抜け、色差、クラック、スクラッチ、金属残渣、メタルロスなどの欠陥を検出 - 高精度分解能 ...
... 導入
TR7950Q SIIは、先端半導体製造向けに設計されたモジュラー式のウェーハ検査および微小計測メトロロジープラットフォームです。AI駆動のアルゴリズムと、SWIR・3D DFF・TSV/Thin-Filmなどのオプションセンサーモジュールを組み合わせ、目に見えない内部欠陥の検出と高精度測定を実現します。
特長
- 高解像度ウェーハ検査
- メトロロジー機能を備えた精密マイクロ測定
- 超高速TSVおよび薄膜メトロロジー
- オプションのSWIRによる内部欠陥検出
- DFFオプション（Depth
TRI Test Research Europe GmbH
... 高生産性パターン付きウェハ広領域検査システム 8シリーズ パターン付きウェハ欠陥検査装置は、生産プロセスの問題を迅速に特定し、解決するために、非常に高いスループットで様々な種類の欠陥を検出します。8シリーズは、150mm、200mm、300mmのシリコン、SiC、GaN、ガラス、その他の基板を使用したチップ製造において、初期製品開発から量産まで、コスト効率の高い欠陥モニタリングを実現します。最新世代の8935検査装置は、新しい光学技術、DesignWise®およびFlexPoint™精密エリア検査技術を採用し、チップ不良の原因となる重要な欠陥を捕捉します。DefectWise® ...
KLA Corporation
... 概要
- IC基板向け自動光学検査（AOI）、最小分解能ライン/スペース4 µm対応。
- Galaxy 4CχはCIMSの最新世代AOIシステムで、カラーカメラとPrisma™ Gen II光学を搭載し、量産速度でのコントラストの高い画像取得を実現します。
- 高解像度イメージングとカスタマイズ可能な検出アルゴリズムをSpark™ 3.0で駆動し、次世代IC基板の大量生産を支援する設計です。
- モジュール式のオプションと計測パッケージにより、パネルや回路要素のライン内測定・検査ワークフローに対応します。
ハイライト
- スムーズで静音な移動を実現するリニアモーター
- 工場への組込み性を考慮したコンパクトな機械プラットフォーム
- 第6世代ハードウェアアーキテクチャ
- X-WAVE™によるマルチウェーブオプション対応の強化照明ブロック
- 新規ジョブの高速かつ直感的なセットアップ
- フロントAMHSオートメーションまたはロボットハンドリングに対応
オプション
- Fi™
CIMS
... ピンノズルフィルター オプト・ソリーノ RTI センサー
100-SO-10-MAN-001 / AN_SO_PN_26-05
顧客の課題 ピンノズルフィルターは、ろ過、流体制御、定量供給で使われる高精度の微小穿孔部品です。メーカーは、マイクロ孔配列、孔の形状、孔縁の状態、基板表面の仕上げ、孔内の汚染を確実に検査する手法を求めています。
検査の課題 微小で反復する特徴や反射性のある金属表面により、従来のマシンビジョンでは検査が困難です。主な課題
- 研磨・加工された金属の強い鏡面反射やまぶしさ
- 多数の小さな繰り返し孔の一貫した検出の必要性
- 流れに影響する孔縁のバリやエッジ不良
- 照明方向により見え方が変わる孔内の深さ・影の影響
- 微小孔内の粒子・残留物・閉塞
- 加工痕や磨きムラなどの表面仕上げ差が欠陥を覆い隠す場合
- 部品全体の工程変動による表面外観の不一致
技術原理 ...
... 概要
ウェーハ検査システムから提供される情報に基づき、NG画像の詳細解析、解析データの保存、ホストPCとの通信を行う装置です。
用途
半導体デバイス／CMOSデバイスの製造工程における欠陥管理。
システム概要
本システムは欠陥画像を取得し、上流システムへデータをアップロードします。欠陥座標やメタデータはWafer Review SystemおよびWafer Inspection System（AVI）から提供されます。本システムはAVIからの欠陥情報も解析します。Seiwa ...
... 独自の光学設計技術により、Imperiaは歩留まりに悪影響を及ぼす欠陥を検出・分類し、同時に最先端のフォトルミネッセンス（PL）生産監視を行うことができます。 製品概要 Imperiaは、独自の光学設計技術により、歩留まりを脅かす欠陥を検出・分類し、同時に最先端のフォトルミネセンス（PL）生産監視を行うシステムです。これら2つのエピタキシャル後の計測スクリーニング機能を1つの高スループットシステムに統合することで、貴重な工場スペースとカセット処理時間を最小化することができます。この製品は、ユーザーに大きな経済的節約をもたらします（例：MOCVDリアクターの収量とPMスケジュールを正確に予測する）。 - ...
Onto Innovation Inc.
... GWIシステムは、生産サイクルの早い段階でガラスウェーハの欠陥を検出するために構築されました。 このシステムは、欠陥の検出に必要な精度を満たすために、高解像度のスマートカメラに基づいています。 ウエハの完全な評価はスマートカメラで行われます。 ガラスウェーハの画像が撮影され、カメラですぐに処理されます。 結果のデータと画像が PLC に転送されます。 ディスプレイをカメラに接続して、結果を画面に表示するオプションもあります。 評価プロセスを実行するには、イーサネット、RS232、電源I/O接続が使用できます。 ...
... AM018Tウェーハ検査システムは、高速かつ高精度で包括的なソリューションであり、サイズ、厚さ、汚れ、欠け、抵抗率、微細亀裂、P/N型、穴などに基づいてウェーハを検出・選別することができます。 国内市場におけるウェーハ選別システムのパイオニア 優れた検査性能と信頼性の高い自動化を活かし、本検査システムは高い評価を得て、世界中の顧客から第一の選択肢となっています。 この高速ウェーハ検査システムは、ウェーハ製造におけるスライシングおよび洗浄工程後の最終工程（エンド・オブ・ライン）品質検査用に特別に設計されており、ウェーハ出荷前の最終的な品質チェックとして機能します。 主な機能：ウェハーの包括的な検査と格付けを行い、合格品のみがセル製造工程に送られることを保証することで、より競争力のある価格でより高い品質を実現します。 また、ウェハー検査システムで生成されたデータは、前工程のスライシング工程に送信され、プロセスの最適化や歩留まりの向上に活用することも可能です。 技術的優位性： a) ...
... FRTの光学式検査装置MicroProf DIは、構造化されたウェーハと非構造化ウェーハを製造工程全体で検査することが可能です。2次元検査と計測を組み合わせることで、マイクロバンプ、RDL、オーバーレイ、スルーシリコンビア（TSV）などの欠陥検査やウェーハレベル計測など、さまざまなアプリケーションに1台の計測装置で対応することが可能です。 MicroProf DIには複数のモジュールが含まれており、同じツールプラットフォーム上で柔軟に組み合わせることで、すべてのウェーハ表面を高いスループットでカバーし、効率的なプロセス制御を実現します。モジュールには、シングルショットおよびステップカメラモジュールによる光学検査と欠陥の分類、高精度マイクロスコープによる欠陥のレビュー、さまざまなトポグラフィーおよび層厚センサーによる総合マルチセンサー計測が含まれます。また、ウェハー上の隠れた構造や介在物を光学的、非接触、非破壊で解析するために、赤外線光源と赤外線顕微鏡を備えた干渉型層厚センサーも用意されています。 ...