ウェハー運搬用配置システム

繰返し精度: 1.5 µm - 3.5 µm
積載量: 663 g
ストローク: 40 mm

... MP95-3 小型XYZ位置決めシステム、デカルト カスタマイズ可能： - コンポーネントや追加軸のアライメントに最適 - XYZの移動量は最大40 mmで、コンパクトなサイズ（145 x 95 x 130 mm）を実現 - 非常に高分解能で、横3方向のステップ補正が可能 - 最大1.5 µmの繰り返し精度 XYZ位置決めシステムは、3台の小型リニアステージ（3 x MT95）で構成される直交方向位置決めシステムです。クロスローラーガイドにより、非常に優れた性能を実現しています。 仕様 - ...

繰返し精度: 2.3 µm - 4.5 µm
積載量: 4.5 kg
ストローク: 50 µm - 50 µm

... MP130-3 小型XYZ位置決めシステム、デカルト カスタマイズ可能 - 高剛性によるμm精度 - 最大30 mm/sの速度で高ダイナミクスを実現 - 最大荷重45 N - クロスローラベアリングガイドによる最小限の摩擦抵抗 スクリュードライブとDCまたはステッピングモーターを備えたコンパクトな3軸アライメントシステムは、当社のFMCシリーズコントローラーを使用して簡単に制御できます。適切なコミッショニングソフトウェアFMC Quickを使用することで、システムは数分で初期テストが可能になります。 仕様 - ...

繰返し精度: 5, 10 µm
積載量: 4 kg - 25 kg
速度: 0.1 m/s - 10 m/s

... Z3TM+は、モーションプラットフォームに対応するモジュールのポートフォリオを拡大します。このモジュールは、4つの独立した自由度、すなわち、拡大されたθ中空シャフト内に組み込まれたチップ、チルト、θおよびZ軸を追加します。1つの構成にはZ軸が含まれ、1つは細軸（FZ）、もう1つは粗軸（CZ）です。設計上、このオプションモジュールは、先端半導体アプリケーション用のウェーハモーションプロファイルの完全な充足を可能にし、OEMにあらゆる半導体技術用のターンキーソリューションを提供します。製品のコンパクトさは、体積あたりの機能数で記録的な密度を確立し、その性能は、ウェーハレベルの精度とダイナミクスの新しい市場基準を打ち立てました。 Z3TM+フレクシャーベースの微細Z軸により、OEMは高価で時代遅れの圧電ソリューションから移行することができ、ヒステリシスの問題を解消しながら、ナノメートルレベルの分解能、精度、再現性をさらに高いダイナミクスでサポートします。適切なサンプルアライメントへの組み込みサポートにより、このモジュールは、追加の「チップ」軸と「チルト」軸によって、装置ヘッドに対するウェーハの平面性をさらに制御することができます。このようなユニークな機能により、ユーザーは、例えば平坦度、公称AOI（Angle ...

繰返し精度: 1.5, 5.5 µm
ストローク: 76 mm
速度: 50 mm/s

... 最小限の施工スペースで歩留まり最大化 EUV露光機の小型化・自動化のための補完的な偏光フィルターとして開発された高精度位置決め装置です。約120×180×31mmという非常に限られたスペースで、既存のウェーハステッパーの露光品質と歩留まりを最大化します。EUVや乾燥・無酸素の純窒素雰囲気など、過酷な環境下での高解像度プロセスにも対応します。 過酷な環境下での精度を最適化 - EUV自動露光装置における小型化に最適 - 最小のスペース（約120×180×31mm）で、既存のウェーハステッパーシステムの歩留まりと解像度を最大化 - ...

繰返し精度: 1.5, 2.5 µm
ストローク: 50, 150 mm
速度: 25 mm/s

... UV露光マスクのXYシータアライメント｜ドライ窒素雰囲気下でのウェーハ露光用高精度位置決め装置 精密組立品 786001:002.26 UV露光マスクのXYθアライメント｜乾燥窒素雰囲気下でのウェハ露光用高精度位置決めシステム - 精密組立品 過酷な条件下での微細構造形成のためのµmアライメント UV露光用マスクの高精度アライメント用に特別に開発された3軸マスクシステムです。X軸2本、Y軸1本の計3本のリニア軸を持ち、垂直方向のストローク（等速運動）と回転（逆速運動）の両方を発生させるパラレルキネマティックデザインを採用しています。これにより、紫外線照射下および超乾燥窒素雰囲気下において、ナノメートル領域での高精度な直線および回転位置決めを実現しました。 ...

繰返し精度: 1.5, 2.5 µm

... ウェーハステッパー用レンズの高精度調整を実現するダブルXY直動軸｜クリーンルームでの超微細UV露光 - 精密アセンブリ 2つの光学系を高精度に調整 ウェーハステッパー用に特別に開発された高精度なダブル直動軸です。UV露光の際、より微細な構造を実現するために、2つのレンズを相対的に、また一緒に位置決めする必要があります。このソリューションは、共通のガイドシステム上の2つのスライド軸で構成されています。2つの移動スライドキャリッジはそれぞれ3つのキャリッジを持ち、レンズをできるだけ接近させるために、互いの中で部分的に移動することができます。 極度に乾燥した環境下での超微細画像処理 - ...