高輝度レーザー システム
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出力: 30,000, 15,000, 20,000 W
波長: 1,075 nm
... 概要
IPGのCWシングルモードおよび低次モードファイバー YLS-SMx レーザ光源は、低次・低発散のビームで最大30 kWの連続出力を提供します。これらのコンパクトな工業用CWファイバーレーザは高輝度を実現し、パワービーミング、LIDAR/障害物警告、指向性エネルギー、遠隔材料処理などの高度な長距離および研究用途向けに設計されています。
主な特徴
- 連続出力 最大30 kW(機種により異なる)
- 1075 nm
出力: 1,000 W
波長: 355, 532, 266, 1,064 nm
... NL230シリーズのダイオード励起短ナノ秒レーザーは、高強度、高輝度のパルスを生成するように設計されており、材料のアブレーション、光検出および測距(LIDAR)、リモートセンシング、質量分析、OPO、Ti:Sapphireまたは色素レーザーポンピングなどのアプリケーションを対象としています。ダイオード励起により、レーザーのメンテナンスフリーの運転が可能になり、推定8時間の作業時間で3年以上の長期間にわたって動作します。
特徴
- 顧客に認められた信頼性
- 2年間の保証
- ダイオード励起
- 頑丈な密閉レーザーキャビティ
- 1064
EKSPLA
出力: 6,000, 20,000, 10,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
NanoFlux HPシリーズは、高エネルギーパルスを高繰り返し率で提供するように設計された高出力ダイオードポンプナノ秒増幅器システムです。これらの電気光学的Qスイッチナノ秒Nd:YAG増幅器システムは、業界で実証済みの技術に基づいており、均一なビームプロファイルと低い発散を持つ高強度、高輝度のパルスを必要とするアプリケーションに適しています。システムは、顧客のシードソースの統合、マルチチャネル出力、バースト増幅など、特定の要件に合わせてカスタマイズできます。マスターオシレーターは数ナノ秒の短いパルスを生成でき、パワーアンプは空間ビーム成形を使用してスーパーガウス出力ビームプロファイルを実現します。温度安定化ヒーターを備えた高調波ジェネレーターは、2次および3次高調波生成のために利用可能で、高いスペクトル純度を保証します。システム制御は、コントロールパッド、USB、LAN、およびオプションでRS232を介して可能で、Windows用の専用ソフトウェアが付属しています。NanoFlux ...
EKSPLA
出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器(AWG)によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。
特徴
- 高エネルギーナノ秒レーザー
- 時間的に成形されたパルス
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 10 Hzのパルス繰り返し率
- パルス成形用の任意波形発生器
- 0.15
EKSPLA
出力: 0.09 W
波長: 660 nm - 2,600 nm
... PhotoSonus Xは、フォトアコースティックイメージング用に設計された高出力DPSS可変レーザーであり、迅速なサンプルスキャンと高解像度イメージングが必要な前臨床および臨床アプリケーションに適しています。その高出力エネルギー、広範な波長調整範囲、最大100 Hzの繰り返し率、および迅速な波長切り替えにより、高データ取得率と高解像度イメージングに理想的です。システムはダイオードポンプ固体レーザープラットフォームに基づいており、フラッシュランプポンプレーザーと比較して静かな動作を保証し、特に臨床環境に有益です。レーザーの出力はほぼすべてのタイプのファイバーバンドルと結合でき、内部エネルギーメーターや自己テスト機能を備えた電気機械シャッターなどのオプション機能により、臨床フォトアコースティックアプリケーションでの認証に対応しています。よく設計されたシステム設計とダイオードポンプ技術により、高い信頼性と低い運用コストが保証されます。
特徴
- 660〜1300
EKSPLA