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出力: 50 W - 2,000 W
波長: 895 nm - 2,100 nm
... 概要
準連続波（QCW）ファイバーレーザは、比較的長い高ピーク出力パルスを用いて、平均出力を抑えつつ連続波（CW）レーザに匹敵する加工結果を実現します。QCWパルスは平均出力の最大10倍のピーク出力と数百ジュールまでのパルスエネルギーを提供できます。典型的なパルス持続時間は0.05 ms〜50 msです。構成はシングルモード、マルチモード、マルチチャンネルがあり、代表的波長は1070 nm、ダイオードやツリウムのバリエーションもあります。
レーザ出力の活用
QCWレーザは長パルスで高いピーク出力を生成し、平均出力を下げたまま金属・非金属表面への効率的なエネルギーカップリングを可能にします。これにより、高パルスエネルギーや低入熱処理が求められる用途に適します。
主な機能と特長
- ピーク出力は平均出力の最大10倍
- パルス幅は通常0.05–50
出力: 100 W
波長: 193 nm - 10,000 nm
... PGx01シリーズは、高度な分光学および研究用途向けに設計された、高エネルギー、広帯域波長可変ピコ秒光パラメトリック増幅器（OPA）です。Travelling Wave Optical Parametric Generators (TWOPG)は、紫外(UV)から中赤外(Mid-IR)スペクトルにわたる超高速で波長可変なコヒーレント光源を提供し、幅広い科学的調査に理想的です。 アプリケーション
- 非線形分光：振動-SFG、表面-SH、Zスキャン
- ポンプ-プローブ実験
- レーザー誘起蛍光（LIF）
- その他のレーザー分光アプリケーション
- PG401:
EKSPLA
波長: 192 nm - 2,600 nm
... NT340シリーズは、幅広い分光アプリケーション向けに設計された、高エネルギー、広範囲に波長可変可能なナノ秒レーザーシステムです。192nmから4400nmまで、最大20Hzの繰り返し周波数で、ハンズフリー、ノーギャップチューニングが可能です。NT340は、線幅5cm-¹以下、豊富なオプションにより、要求の厳しい分光アプリケーションに最適です。 特徴
- お客様が認めた信頼性
- 2年保証
- ハンズフリー
- ノーギャップ波長チューニング
- 可視光域で最大150mJのパルスエネルギー
- UV光域で最大22mJのパルスエネルギー
- MIR光域で最大20mJのパルスエネルギー
- 3～5
EKSPLA
出力: 150, 1,000 W
波長: 213, 266, 355, 532, 1,064 nm
... PL2230シリーズは、ダイオード励起、空冷、モードロックされたピコ秒Nd:YAGレーザーで、100Hzの繰り返し周波数で最大40mJの高エネルギーピコ秒パルスを供給するように設計されています。これらのレーザーは、正確なパルスエネルギー制御、優れた短期および長期安定性を提供し、要求の厳しい科学アプリケーションに適しています。 特徴
- 1064 nmで1パルスあたり最大40 mJを発生するダイオード励起パワーアンプ
- 高度なビーム整形システムによるビームプロファイルの改善
- 密閉型DPSSマスター発振器
- ダイオード励起再生増幅器
- 空冷式
- <；30psのパルス幅
- 優れたパルス幅の安定性
- 最大100Hzの繰り返し周波数
- 10psのジッタを持つストリークカメラのトリガパルス
- 優れたビームポインティングの安定性
- サーモスタビライズされた第2、第3、第4高調波発生器オプション
- PC制御
- キーパッドによるリモートコントロール
- 時間分解蛍光（ストリークカメラ測定を含む）
- SFG/SHG分光法
- 非線形分光法
- レーザー誘起ブレークダウン分光法
- OPG励起
- リモートレーザーセンシング
- 衛星測距
- その他の分光および非線形光学アプリケーション
EKSPLA
出力: 1,000 W
波長: 355, 532, 266, 1,064 nm
... NL230シリーズのダイオード励起短ナノ秒レーザーは、高強度、高輝度のパルスを生成するように設計されており、材料のアブレーション、光検出および測距（LIDAR）、リモートセンシング、質量分析、OPO、Ti:Sapphireまたは色素レーザーポンピングなどのアプリケーションを対象としています。ダイオード励起により、レーザーのメンテナンスフリーの運転が可能になり、推定8時間の作業時間で3年以上の長期間にわたって動作します。
特徴
- 顧客に認められた信頼性
- 2年間の保証
- ダイオード励起
- 頑丈な密閉レーザーキャビティ
- 1064
EKSPLA
出力: 1,000, 3,500, 6,000, 11,000 W
波長: 210 nm - 840 nm
... UltraFlux HEシリーズは、高エネルギーフェムト秒OPCPA（Optical Parametric Chirped Pulse Amplification）レーザーシステムで、要求の厳しい科学・産業用途向けに設計されています。ハンガリーのELI-ALPS（Extreme Light Infrastructure - Attosecond Light Pulse Source）用に開発され、現在では幅広い用途に使用されています。このシステムは特許取得済みのOPCPA技術に基づいており、2つのファイバー出力を持つオールインファイバーYbドープピコ秒レーザーシード光源であるマスター発振器を備えているため、光同期が確保され、複雑な時間同期システムは不要です。Nd:YAGピコ秒ポンプレーザーシステムには、ダイオード励起アンプとフラッシュランプ励起アンプ、波長変換用の第2高調波発生器が含まれます。フロントエンドNOPCPAは、ピコ秒光パラメトリック増幅器、グレーティング・コンプレッサー、白色光発生器、フェムト秒ノンコリニア光パラメトリック増幅器を含む複数のサブシステムから構成される。システムはグリズムまたはオフナー型パルスストレッチャーと高次位相補償のためのダズラーを使用し、最大1Jのパルスエネルギーを達成するために複数の増幅段がある。増幅されたパルスはフェムト秒に圧縮され、出力診断により信頼性の高いターンキーオペレーションが保証される。 特徴
- 新しいOPCPA技術に基づく
- 特許取得済みのフロントエンド設計（EP2827461およびEP2924500）
- 5
EKSPLA
出力: 5,000, 6,000, 8,000 W
波長: 266, 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux SLMシリーズは、高エネルギーで単一モード（SLM）のQスイッチNd:YAGレーザーで、要求の厳しいアプリケーション向けに設計されています。これらのエレクトロオプティカルQスイッチナノ秒レーザーは、パルスあたり最大10 Jを提供し、OPO、OPCPA、または色素レーザーのポンピング、ホログラフィー、LIF分光法、リモートセンシング、光学試験などに適しています。
特徴
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 2〜25 nsのパルス持続時間
- 10
EKSPLA
出力: 5,000, 6,000, 7,000, 8,000 W
波長: 266, 355, 532, 1,064 nm
... NanoFLux MMシリーズは、1064nmで高エネルギーのナノ秒パルスを供給するように設計された高エネルギーマルチモードQスイッチNd:YAGレーザです。これらのレーザは、高パルスエネルギー、優れたパルス間エネルギー安定性、優れたビーム品質を提供し、OPOやチタンサファイアポンプ、材料加工、プラズマ診断などのアプリケーションに最適です。 特徴
- 高エネルギーナノ秒レーザー
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 5 nsのパルス持続時間（オプションで20
EKSPLA
出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器（AWG）によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。
特徴
- 高エネルギーナノ秒レーザー
- 時間的に成形されたパルス
- 最大10 Jのパルスエネルギー
- 10 Hzのパルス繰り返し率
- パルス成形用の任意波形発生器
- 0.15
EKSPLA
出力: 1,500, 2,500 W
波長: 532 nm
... PhotoSonus Tは、特に高いサンプルイメージング深度が必要な場合に、光音響イメージング用に設計された高エネルギー卓上チューナブルレーザーです。この高エネルギーチューナブルレーザーソースのデスクトップバージョンは、より大きな組織ボリュームのイメージングに最適化されており、ナノ秒光パラメトリックオシレーターとNd:YAG Qスイッチレーザーをコンパクトなハウジングに統合しています。
特徴
- 330〜2600 nmのハンズフリー自動波長調整
- 660〜1320
EKSPLA
波長: 532, 1,064 nm
... パルスシェーピング/イントレピッドは、OPCPAアンプのポンピング用に特別に設計された高エネルギーパルスレーザーシステムです。 レーザの出力は、空間的かつ時間的に平坦になるように形成され、波形全体にわたって入力チャープされたパルスを均一に増幅します。 イントレピッドパルスは、シードパルスの歪みを調整するために優先的に強調することができます： リニアランプ、t3、マルチパルスパターンを生成することができます。 イントレピッドは、mJから数百ジュールまでのさまざまな出力エネルギーで提供されています。 ...