水冷式レーザー システム

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連続レーザー システム
連続レーザー システム
YLS series

出力: 800, 20,000, 8,000, 5,000 W
波長: 1,070 nm

... アジャスタブル・モード・ビーム(AMB)レーザは、高強度のコアビームをサポートする二次リングビームを導入している。 溶接では、コア・ビームが溶接部を形成し、リング・ビームが溶接プールを安定させるため、高速でスパッタのない溶接が 可能になり、ひび割れやポロシティなどの欠陥が実質的に排除される( )。 ...

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IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
準連続波レーザー システム
準連続波レーザー システム
MCQL-450/4500/x

出力: 50 W - 2,000 W
波長: 895 nm - 2,100 nm

... 概要
準連続波(QCW)ファイバーレーザは、比較的長い高ピーク出力パルスを用いて、平均出力を抑えつつ連続波(CW)レーザに匹敵する加工結果を実現します。QCWパルスは平均出力の最大10倍のピーク出力と数百ジュールまでのパルスエネルギーを提供できます。典型的なパルス持続時間は0.05 ms〜50 msです。構成はシングルモード、マルチモード、マルチチャンネルがあり、代表的波長は1070 nm、ダイオードやツリウムのバリエーションもあります。

レーザ出力の活用
QCWレーザは長パルスで高いピーク出力を生成し、平均出力を下げたまま金属・非金属表面への効率的なエネルギーカップリングを可能にします。これにより、高パルスエネルギーや低入熱処理が求められる用途に適します。

主な機能と特長

  • ピーク出力は平均出力の最大10倍
  • パルス幅は通常0.05–50
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IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
YLPN series

出力: 100 W - 3,000 W
波長: 1,064 nm

... 概要
赤外ナノ秒パルスファイバーレーザは、高い平均出力と可変パルスエネルギーを提供し、産業分野の材料加工に用いられます。IPGのファイバアーキテクチャは、統合向けのモジュールや独立した生産装置としてのキャビネット構成を可能にします。

主な用途

  • レーザクリーニングおよび表面処理
  • 板材・箔の切断およびトリミング
  • マーキングおよび彫刻(高エネルギーパルスを要するダークマーキングを含む)
  • 穴あけ、スクライブ、マイクロ加工
  • 高精度マイクロ形状の生成


主な利点
  • 高スループット向けの高い平均出力および高パルスエネルギーの選択肢
  • プロセス要件に合わせたパルス幅・繰返し率の設定が可能
  • 微細加工向けや高スループット向けのビーム品質バリエーション
  • 高出力向けの水冷キャビネットや、組み込み向けの空冷モジュールを用意


製品ファミリ/比較(概要)
YLPN-S ...

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パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
ULPN series

出力: 100, 10 W
波長: 355, 266 nm

... 億分の1秒単位で測定されるレーザパルスを利用し、紫外および深紫外ナノ秒パルスレーザは、赤外または可視波長のレーザには適さない用途に使用される。 IPG紫外ナノ秒ファイバーレーザは、他に類を見ないほどコンパクトで信頼性が高く、特殊用途向けに幅広い出力を提供する。 ...

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IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
ナノ秒レーザー システム
ナノ秒レーザー システム
ELPN-1617/1645

出力: 25 W
波長: 1,617, 1,645 nm

... コンパクトで効率的、堅牢かつ強力な中赤外ハイブリッド固体レーザは、IPG活性セラミック結晶を中心に構築されており、費用対効果が高く、信頼性が高く、効率的なIPG ErおよびTmファイバーレーザによって光学的に励起される。 これらのレーザは、連続波からフェムト秒パルスまでのすべての動作モードにまたがって、1.6μmから12μmの波長範囲で動作する。 ...

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IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
ピコ秒レーザー システム
ピコ秒レーザー システム
PT277 series

出力: 0.01 W - 0.4 W
波長: 1,403 nm - 17,000 nm

PT277シリーズは、先進的な分光法および顕微鏡法のアプリケーション向けに設計された、単一ハウジングの中赤外線可変ピコ秒レーザーシステムです。このシステムは、ピコ秒光学パラメトリックオシレーター(OPO)とDPSSポンプレーザーを単一のコンパクトなハウジングに統合し、堅牢な構造、長期的な安定性の向上、およびメンテナンスの削減を提供します。PT277 XIRシリーズは、1403–2020 nm、2250–4400 nm、および12500–17000 nmの可変波長範囲を提供し、全調整範囲で5 cm⁻¹未満の線幅を持ちます。システムは、ハンズフリーのモーター駆動調整、ほぼ回折限界の発散、および全範囲にわたるビーム方向の安定性を特徴としています。内部空気清浄システムを備え、USB、RS232、およびLANを介したPC制御をサポートし、REST ...

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EKSPLA
ピコ秒レーザー システム
ピコ秒レーザー システム
PL2250

出力: 1,500, 2,500 W
波長: 213, 266, 355, 532, 1,064 nm

... PL2250シリーズはフラッシュランプ励起ピコ秒Nd:YAGレーザーで、20Hzの繰り返し周波数で最大100mJの高エネルギーピコ秒パルスを出力するように設計されています。これらのレーザーは、信頼性を高め、ランニングコストとメンテナンスコストの両方を削減する費用対効果の高い設計が特徴です。このシステムは、ハーメチックシールされたモノリシックブロックにダイオード励起固体(DPSS)マスターオシレーターと革新的なダイオード励起再生アンプを内蔵しており、熱レンズ効果が無視でき、長期安定性が向上している。フラッシュランプ励起パワーアンプは、ガウシアンビームプロファイルと低波面歪みを維持しながら、効率的な増幅ができるように最適化されている。出力パルスエネルギーは微調整が可能で、高調波発生は、恒温安定化オーブン内で角度調整されたKD*P結晶とKDP結晶を用いて達成され、各高調波の高いスペクトル純度を保証する。内蔵のエネルギーモニターが連続的なフィードバックを提供し、システムは、リードまたはディレイを調整可能な、装置同期用の複数のトリガーパルスを提供します。 特徴

  • 密閉型DPSSマスターオシレーター
  • ダイオード励起再生増幅器
  • フラッシュランプ励起パワーアンプ
  • 1064
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EKSPLA
ピコ秒レーザー システム
ピコ秒レーザー システム
Atlantic

出力: 18 W - 80 W
波長: 355 nm - 1,064 nm

... Atlanticシリーズは、R&Dラボや産業環境での幅広い材料加工アプリケーション向けに設計された高出力産業用ピコ秒レーザーです。これらの水冷レーザーは高エネルギーと高出力を提供し、LCDやOLEDディスプレイの切断や穴あけ、レーザー誘起前方転送(LIFT)、ガラスやサファイアの加工、超硬材料のマイクロマシニング、金属のアブレーション、ポリマーの切断と穴あけ、シリコンのスクライブ、太陽電池のスクライブなどの要求の厳しい作業に適しています。

特徴

  • 1064
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EKSPLA
パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
NanoFlux HP

出力: 6,000, 20,000, 10,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm

NanoFlux HPシリーズは、高エネルギーパルスを高繰り返し率で提供するように設計された高出力ダイオードポンプナノ秒増幅器システムです。これらの電気光学的Qスイッチナノ秒Nd:YAG増幅器システムは、業界で実証済みの技術に基づいており、均一なビームプロファイルと低い発散を持つ高強度、高輝度のパルスを必要とするアプリケーションに適しています。システムは、顧客のシードソースの統合、マルチチャネル出力、バースト増幅など、特定の要件に合わせてカスタマイズできます。マスターオシレーターは数ナノ秒の短いパルスを生成でき、パワーアンプは空間ビーム成形を使用してスーパーガウス出力ビームプロファイルを実現します。温度安定化ヒーターを備えた高調波ジェネレーターは、2次および3次高調波生成のために利用可能で、高いスペクトル純度を保証します。システム制御は、コントロールパッド、USB、LAN、およびオプションでRS232を介して可能で、Windows用の専用ソフトウェアが付属しています。NanoFlux ...

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パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
NanoFlux AWG

出力: 6,000, 9,000, 13,000 W
波長: 355, 532, 1,064 nm

... NanoFlux AWGシリーズは、時間的に成形された高エネルギーNd:YAGレーザーで、先進的な科学および産業用途向けに設計されています。これらのレーザーの主な特徴は、プログラム可能な任意波形発生器(AWG)によって駆動される電気光学変調器を介して、出力パルスを時間的に成形する能力です。

特徴

  • 高エネルギーナノ秒レーザー
  • 時間的に成形されたパルス
  • 最大10 Jのパルスエネルギー
  • 10 Hzのパルス繰り返し率
  • パルス成形用の任意波形発生器
  • 0.15
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パルスレーザー システム
パルスレーザー システム
FC-W-XXXH

出力: 50 W - 200 W
波長: 445 nm - 980 nm

... ダイオードレーザーシステム 超高出力ファイバ結合型ダイオードレーザシステム FC-W-Hシリーズ(ファイバーカップリングレーザーシステム)は、レーザーダイオード、ファイバーカップリング光学系、レーザー電源、LD電流、温度制御をワンボックス化したシステムです。コンパクトなサイズで、出力調整、温度調整、LED表示などの便利な機能を備えているため、ポンプ、科学研究、工業、医療などの用途に適しています。 ダイオード電流表示、温度表示、調整ノブ、温度制御可能、温度・電流保護。 ...

CWレーザー システム
CWレーザー システム
FocusMat® Series

出力: 6,000, 4,000 W
波長: 800 nm - 1,000 nm

... FL-DLight3-6000 FocusMat®シリーズ 特徴 金属加工に適した波長 高い吸収率 金属加工に適したビーム均一性 独自の光分配設計とアンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ・アンチ フィードバック技術 コンパクト設計 メリット 高い壁コンセント効率(>50%) 出力電流が一定で、処理の一貫性が高い 異なった処理要件のために調節可能なスポットサイズ 大量生産に適した大きな長方形のスポットです。 高処理効率 DLight®ダイオードレーザーシステム 特徴 - ...

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