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Alinhador de máscara para wafers
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Alinhador de máscara para wafers - SEIWAOPTICAL - de bancada / automático / para produção
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Características

Especificações
para wafers, automático, de bancada, para produção, para laboratório

Descrição

Visão geral
  • Sistema de exposição de wafers (mask aligner) de bancada, concebido para P&D e produção em pequenos lotes.
  • Suporta três modos de controlo de folga: Hard contact, Soft contact e Proximity gap.


Aplicações
  • Indicado para vidro, wafers, filmes e substratos cerâmicos.
  • Laboratório de P&D, prototipagem e pequenas produções.


Principais características
  • Alinhamento selecionável: opções de alinhamento manual ou automático.
  • Controlo de folga selecionável: ajuste automático ou manual do gap.
  • Carregamento/descarregamento manual para manipulação flexível de diferentes substratos.


Especificações
  • Tamanhos de trabalho: 12 polegadas, 6-8 polegadas, 4-6 polegadas, 2-4 polegadas e formatos quadrados.
  • Carregamento/descarregamento: Manual.
  • Método de alinhamento: Manual ou automático (selecionável).
  • Controlo de folga: Automático ou manual (selecionável).
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