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Alinhador de máscara para substratos de grandes áreas
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Alinhador de máscara para substratos de grandes áreas - SEIWAOPTICAL - totalmente automático / para produção
Alinhador de máscara para substratos de grandes áreas - SEIWAOPTICAL - totalmente automático / para produção
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Características

Especificações
totalmente automático, para produção, para substratos de grandes áreas

Descrição

Visão geral
Projetado para exposição de vidro em alta definição, este sistema integra um sistema óptico UV otimizado para exposição de padrões finos e um mecanismo de paralelização de alta precisão entre fotomáscara e substrato. Operação totalmente automática com modos de exposição: contato a vácuo, contato suave e gap de proximidade. Configurações vertical e horizontal para diferentes tamanhos de máscara: vertical para máscaras grandes (G5 e superiores), horizontal para G4.5 ou menores.

Uso
Adequado para processamento de vidro em linhas de produção FPD (flat panel display), TP (touch panel) e CF (cell fabrication).

Especificação
  • Tamanho de substrato disponível: G4.5 - G8.5
  • Precisão de alinhamento: ±1 μm
  • Modos de exposição: contato a vácuo, contato suave, gap de proximidade


Principais características
  • Sistema óptico UV otimizado para exposição de alta definição
  • Mecanismo de paralelização de alta precisão entre fotomáscara e substrato
  • Operação totalmente automática com modos de exposição selecionáveis
  • Configurações: vertical (recomendada para G5+) e horizontal (recomendada para G4.5 ou menores)
  • Projetado para integração em linhas industriais FPD/TP/CF
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