IntroduçãoO TR7950Q SII é uma plataforma modular de inspeção de wafers e metrologia de micro-medidas projetada para produção avançada de semicondutores. Integra algoritmos orientados por IA e módulos sensoriais opcionais (SWIR, 3D DFF, TSV/Thin-Film) para detectar defeitos subsuperficiais e executar medições de alta precisão para otimizar o rendimento.
Recursos- Inspeção de wafer em alta resolução
- Medições micro-precisas com capacidades de metrologia
- Metrologia TSV e de filmes finos em ultra-alta velocidade
- Detecção de defeitos internos com módulo SWIR opcional
- Resolução 0,5 µm / 1 µm disponível via DFF opcional (Depth From Focus)
- Capaz para sala limpa: Classe ISO 5
- Medição TSV: detecção de profundidade TSV, profundidade de trincheira
- Medição de filmes finos: óxido, nitreto, PR, espessura PI
Sistema ópticoMétodo de imageamento: Stop-and-Go Imaging
Câmera: 25 Mpix
Resolução óptica: 2,5 µm
Iluminação: LED True Color multi-fase; iluminação coaxial
Tecnologia 3D: Quad Digital Fringe Projectors
Altura 3D máx.: 600 μm
Manuseio de wafer e frameTamanhos de wafer: 6", 8", 12"
Tamanhos de frame: 8", 12"
Sala limpaClasse sala limpa: ISO Class 5 (ISO 14644-1)
Mesa de movimento e controloEixo X: Motor linear com controlador de movimento + mancal de ar ou guia linear
Eixo Y: Motor linear com controlador de movimento + mancal de ar ou guia linear
Eixo Z: Fuso de esferas + guia linear + servomotor AC com controlador de movimento OU guia linear + motor linear com controlador de movimento
Resolução eixos X-Y: 0,1 µm
Funções de inspeção e metrologiaWafers padronizados: resíduos, fissuras, riscos, partículas, anomalias de pad, descoloração, contaminação, destacamento, marcas de sonda, medição CD
Wafers bump: tamanho 2D do bump, altura 3D do bump, defeitos de bump, material estranho, medição CD
Frames de wafer: lascamento, fissuras, riscos, partículas, contaminação, medição CD, metrologia 3D de serra
Topologia do wafer: espessura do wafer, warpage no lado superior
TSV: detecção de profundidade TSV, profundidade de trincheira
Filme fino: espessura de óxido, nitreto, PR, PI
Recursos opcionaisTecnologias sensoriais opcionais: Módulo 3D DFF (0,55 ou 1 µm), Módulo SWIR (1, 2 ou 4 µm), Módulo CSS, Módulo TSV/Thin-Film
Módulo TSV / Thin-Film: tamanho de ponto 50 µm / 25 µm; razão de aspecto TSV até 30:1; diâmetro de via 3–20 µm; faixa de espessura de filme 100 nm – 30 µm
DimensõesLxPxA: 1235 x 2590 x 2050 mm (varia com EFEM)
Peso: 2300 kg (sem EFEM)
Notas* DFF e SWIR são opcionais e podem ser instalados; compatíveis com módulos TSV/Thin-Film e CSS.
Especificações técnicas- Modelo: TR7950Q SII
- Marca: Test Research, Inc. (TRI)
- Método de imageamento: Stop-and-Go Imaging
- Câmera: 25 Mpix
- Resolução óptica: 2,5 µm
- Tecnologia 3D: Quad Digital Fringe Projectors
- Altura 3D máx.: 600 μm
- Iluminação: LED True Color multi-fase; iluminação coaxial
- Tamanhos de wafer suportados: 6", 8", 12"
- Tamanhos de frame suportados: 8", 12"
- Sala limpa: ISO Class 5 (ISO 14644-1)
- Resolução eixos X-Y: 0,1 µm
- Módulos opcionais: SWIR (1/2/4 µm), 3D DFF (0,55 ou 1 µm), CSS, Módulo TSV/Thin-Film
- Módulo TSV: tamanhos de ponto 50 µm / 25 µm; razão de aspecto até 30:1; diâmetro de via 3–20 µm
- Faixa de medição de espessura de filme: 100 nm – 30 µm
- Dimensões (LxPxA): 1235 x 2590 x 2050 mm (varia com EFEM)
- Peso (sem EFEM): 2300 kg