フェムトセカンドレーザー システム UltraFlux Custom
超短パルスパルス固体

フェムトセカンドレーザー システム - UltraFlux Custom - EKSPLA - 超短パルス / パルス / 固体
フェムトセカンドレーザー システム - UltraFlux Custom - EKSPLA - 超短パルス / パルス / 固体
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特徴

操作方法
フェムトセカンド, 超短パルス, パルス
光源
固体
スペクトル
赤外線
応用
研究用, 顕微鏡, 測定用, 分光学用
その他の特徴
高速, 高出力, ダイオード ポンプ式, Nd:YAG, ASE光源, 超高速
出力

最少: 5,000,000,000 W
(6,798,105.776 hp)

最大: 15,000,000,000 W
(20,394,317.327 hp)

詳細

UltraFlux Customは、1 kHzの繰り返し周波数と8 fsのパルス持続時間で約15テラワットの出力を提供するようにカスタム設計された、マルチテラワット、少サイクルのOPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅)レーザーシステムです。この先進的なレーザーシステムは、ハンガリーのセゲドにあるELI-ALPS施設のために特別に開発され、業界でテストされたYb:KGWおよびNd:YAGレーザーに基づいています。

特徴
  • 低メンテナンスコストのダイオードポンプおよび業界でテストされたYb:KGWおよびNd:YAGレーザーによって駆動され、1 kHzの繰り返し周波数で動作
  • 120 Wの平均出力と>15 TWのピーク出力、250 mrad未満のキャリアエンベロープ位相(CEP)安定性、および900 nmの中心波長で8 fs未満のパルス持続時間を組み合わせた
  • 増幅された自発放射(ASE)なし、パッシブCEP安定化パルスで、24時間の連続運転中の優れた出力パラメータ安定性
  • そのユニークな仕様セットにもかかわらず、卓上システム
  • 洗練された自己診断システムにより、オペレーターの介入なしで一日中安定した出力仕様を提供するハンズフリー操作

用途
  • 基礎的な最前線の粒子物理学研究
  • 核フォトニクス
  • 高調波生成
  • アト秒パルス生成
  • ウェイクフィールド粒子加速
  • X線生成

説明
レーザーは分子および原子構造の理解を革命的に変えましたが、UltraFlux Customシステムは、核子、クォーク、および真空解離の研究を可能にすることで、さらに限界を押し広げます。極端な光インフラストラクチャ(ELI)は、エクサワットクラスのレーザー施設を提供するために設立され、ハンガリーのELI-ALPSは、アト秒スケールでの高繰り返し率の強力な光パルスに焦点を当てています。ELI-ALPSのバックボーンであるOPCPA技術は、少サイクルからサブサイクルのレーザーパルスを可能にします。UltraFlux Customの一部であるSYLOS 3システムは、1 kHzで動作し、研究者がより多くのデータを収集し、基礎科学から応用科学、レーザーを基にした粒子加速器を含む科学に移行することを可能にします。

このシステムは、コヒーレントX線放射の生成、電子加速、および高次高調波生成などの幅広い実験に使用されます。また、アト秒計測、非線形XUV/X線科学、4Dイメージング、産業、バイオ、医療用途にも重要です。業界でテストされた技術を使用してゼロから構築されたこのシステムは、優れた安定性と信頼性を保証し、約120 mJのパルスを提供し、CEP安定性は250 mrad未満、パルスエネルギー安定性は1%未満です。

オプション
  • -F8: ショートパルスオプションは、出力パルス持続時間を≤8 fsに短縮します(このオプションでは波長調整は利用できません)
  • -CEP: CEP安定化を≤250 mradに(パッシブおよびアクティブCEP安定化)
  • -DM: ストレール比を>0.7に改善するための「変形ミラー」オプション
  • -ps out: メインシステム出力に光学的に同期された追加の狭帯域ps出力(同時または非同時に可能)

特性 / 技術仕様
  • モデル: UltraFlux FF401k-F8-CEP / UltraFlux FF1201k-F8-CEP
  • 出力エネルギー: 40 mJ / 120 mJ
  • ピークパルスパワー: >5 TW / >15 TW
  • パルス繰り返し率: 1 kHz
  • 波長: 900 nm
  • パルス持続時間: ≤8 fs (≤3サイクル)
  • パルスエネルギー安定性: ≤1 %
  • 長期パワードリフト: ±1.5 %
  • CEP安定性: ≤250 mrad
  • ビーム空間プロファイル: スーパーガウス
  • ビーム直径: ~50 mm / ~100 mm
  • ビーム指向安定性: ≤20 µrad
  • ストレール比: 0.7
  • 時間的コントラスト(APFC ±50 ps以内): 10¹⁰ : 1
  • プレパルス(≤50 ps): 10¹⁰ : 1
  • ポストパルス(>50 ps): 10⁸ : 1
  • レーザーヘッドサイズ(W×L×H mm): 9000 × 5000 × 1200 / 9000 × 9000 × 1200
  • アンビリカル長: 最大10 m / 最大8 m
  • 電力供給: 208, 380または400 V AC、三相、50/60 Hz
  • 電力消費: ≤40 kVA / ≤60 kVA
  • 水供給: ≤30 l/min, 2 Bar, 最大15 °C / ≤40 l/min, 2 Bar, 最大15 °C
  • 動作環境温度: 22 ±2 °C
  • 保管環境温度: 15–35 °C
  • 相対湿度(結露しないこと): ≤80 %
  • 部屋の清潔さ: ISOクラス7

カタログ

UltraFlux Custom
UltraFlux Custom
4 ページ
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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