半導体産業用るつぼ

金属溶湯移送用高温用窒化ホウ素製

概要

• INNOVACERAは、ディスク、シート、フィラメントリング、VGF坩堝、LEC坩堝、MBE坩堝、円錐形坩堝、特注加工部品など、幅広いPBNセラミック部品を製造しています。

材質と製造
ピロリティック窒化ホウ素（PBN）は、六方窒化ホウ素（hBN）を原料とした化学気相成長（CVD）によって製造されます。CVDプロセスによりBNの結晶が基板に平行に配列され、約99.99%の超高純度と積層状の微細構造が得られます。CVD PBNの典型的な最大壁厚は3 mmで、高真空環境や溶融金属用途に適した高い機械的強度を有します。

用途

• 真空炉用コンポーネント
• 結晶成長用坩堝（GaAs生産向けのMBE坩堝を含む）
• 分子線エピタキシー（MBE）プロセス
• 高真空および溶融金属環境

主な特性

• 異方性の熱伝導率
• 広い温度範囲での高い電気絶縁性と強い誘電強度
• 超高純度（約99.99%）
• 非湿潤性および化学的不活性
• 無毒
• 高温および熱衝撃に対する耐性

技術仕様

• 材質：ピロリティック窒化ホウ素（PBN）、六方窒化ホウ素（hBN）由来
• 製造：化学気相成長（CVD）
• 純度：約99.99%
• CVD構造：基板に平行に配列した結晶構造
• 典型的な最大壁厚（CVD）：3 mm
• 機械的：真空環境に適した高い機械的強度
• 熱的：異方性の熱伝導率；高温および熱衝撃に耐性
• 電気的：高い絶縁抵抗と幅広い温度での強い誘電強度
• 化学的：非湿潤性、化学的に不活性、無毒
• 一般的な製品形状：ディスク、シート、フィラメントリング、VGF坩堝、LEC坩堝、MBE坩堝、円錐形坩堝、特注加工部品