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半導体産業用るつぼ
熱分解窒化ホウ素製

半導体産業用るつぼ - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - 熱分解窒化ホウ素製
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特徴

特性
熱分解窒化ホウ素製, 半導体産業用

詳細

熱分解窒化ホウ素は、六方晶窒化ホウ素の一種です。窒化ホウ素の結晶はすべて、蒸気が蒸着された表面に平行に成長します。 CVDプロセスの性質上、PBN部品は一般的に3mm以下の肉厚が要求されます。PBNは、極めて高純度の窒化ホウ素にも適しています。 99.99%が代表的なグレードです。CVDプロセスは、この熱分解窒化ホウ素にほぼ完全な層状構造を与え、これが熱伝導率の異方性につながり、結晶成長用のるつぼを作るのに理想的な材料になります。 INNOVACERA PBN部品には、PBNディスク、PBNシート、PBNフィラメントリング、PBN VGFるつぼ、PBN LECるつぼ、PBN MBEるつぼ、PBN円錐るつぼ、およびその他のカスタムPBN部品が含まれます。 特徴 1.PBNの色は象牙色と橙褐色の中間で、無毒、無孔質、加工しやすい。 2.純度は99.99%まで、表面緻密化、ガスバリア性が良い。 3.温度上昇とともに強度が増し、2200℃でピークに達する。 4.酸、アルカリ、塩、有機試薬に耐性がある。一方、溶融金属や半導体の大部分とは反応しない。 溶融金属や半導体材料とは反応しない。 5.優れた耐熱衝撃性、優れた熱伝導性、低熱膨張係数。 6.高抵抗、高誘電率、低誘電率、低誘電正接、優れたマイクロ波と赤外線能力。 7.力学的、熱的、電気的に異方性がある。

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