シリコン研磨機 FTB150MP

ウェハー用産業用

FTB150MPは、お客様のニーズに基づき、実験室用途向けに設計された6インチCMP装置です。さまざまな材料に対応しており、高性能な研磨ユニットを搭載することで、ウェハ表面の極めて高い平坦度を実現します。高いコストパフォーマンスを誇り、高精度なプロセス要件を満たす理想的な実験室用ソリューションです。 ウェーハサイズ 6インチ以下 ウェーハ材料 Si、SiC、GaNなど すべての機能を備えた精巧かつコンパクトな設計 中核的な研究開発および小規模分野での用途に特化 コンパクトなサイズ 高集積化されたシングルヘッド・シングルプレート設計。 柔軟なプロセス統合 高剛性構造により、より高い圧力をかけることが可能で、ダイヤモンドパッドコンディショナーまたはナイロンブラシパッドコンディショナーを装備可能です。 コストパフォーマンス コストパフォーマンスに優れた実験室向けソリューション。