共晶チップ用マイクロ シーラー HP-EB1000FC
ダイアタッチ用フリップチップ型

共晶チップ用マイクロ シーラー - HP-EB1000FC - Suzhou Lieqi Intelligent Equipment Co., Ltd. - ダイアタッチ用 / フリップチップ型 / 熱
共晶チップ用マイクロ シーラー - HP-EB1000FC - Suzhou Lieqi Intelligent Equipment Co., Ltd. - ダイアタッチ用 / フリップチップ型 / 熱
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特徴

技術
フリップチップ型, ダイアタッチ用, 共晶, 熱
操作方法
自動, 全自動
応用
半導体産業用, マイクロアセンブリ用, 研究開発用, ウェハー用
その他の特徴
高精度, 設定可能
配置精度

最少: 1 µm

最大: 5 µm

詳細

概要
HP-EB1000FCは、共晶および銀接着剤による搭載プロセスに対応する完全自動・高精度の共晶搭載システムです。COCおよびCOS共晶プロセス向けに開発され、自動ツール交換システムを備え、研究開発用途から工業的な量産まで対応します。

主な特徴
  • 完全自動の搭載ワークフロー
  • 高い搭載精度
  • 自動ツール交換による高い柔軟性


適用分野
  • フォトニクス
  • パワーデバイス
  • マイクロ波RFデバイス
  • 新エネルギー車分野


製品の利点
  • 精密な温度制御が可能な二重加熱溶接ステーション
  • 180°反転搭載をサポートするフリップモジュール
  • 複数の供給フォーマット(GEL-PAK、WAFFLE-PAK、ウェイファーリング)に対応
  • 適応型ノズル設計により搭載の一貫性と安定性を向上


技術仕様
  • 型番:HP-EB1000FC
  • 搭載方式:前面/背面基準での搭載
  • 搭載プロセス:共晶搭載(ディッピング、ディスペンシング)および銀接着剤搭載
  • 対象プロセス/パッケージ:COC;COS
  • 用途:研究開発部門および工業的な量産
  • 搭載精度:±1 μm(標準化フィルム);±5 μm(用途依存)
  • 装置効率:25–32 S/PCS(用途依存)
  • 二重加熱溶接ステーション:温度範囲 常温~400 ℃;昇温率 ≤ 100 ℃/s
  • フリップモジュール:180°反転搭載対応
  • 供給互換性:2" GEL-PAK、2" WAFFLE-PAK、6" wafer ring、8" wafer ring
  • 接合精度:適応型ノズル ±5 μm @3σ 搭載精度;±0.1° @3σ 回転精度
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。