概要HP-EB1000FCは、共晶および銀接着剤による搭載プロセスに対応する完全自動・高精度の共晶搭載システムです。COCおよびCOS共晶プロセス向けに開発され、自動ツール交換システムを備え、研究開発用途から工業的な量産まで対応します。
主な特徴- 完全自動の搭載ワークフロー
- 高い搭載精度
- 自動ツール交換による高い柔軟性
適用分野- フォトニクス
- パワーデバイス
- マイクロ波RFデバイス
- 新エネルギー車分野
製品の利点- 精密な温度制御が可能な二重加熱溶接ステーション
- 180°反転搭載をサポートするフリップモジュール
- 複数の供給フォーマット(GEL-PAK、WAFFLE-PAK、ウェイファーリング)に対応
- 適応型ノズル設計により搭載の一貫性と安定性を向上
技術仕様- 型番:HP-EB1000FC
- 搭載方式:前面/背面基準での搭載
- 搭載プロセス:共晶搭載(ディッピング、ディスペンシング)および銀接着剤搭載
- 対象プロセス/パッケージ:COC;COS
- 用途:研究開発部門および工業的な量産
- 搭載精度:±1 μm(標準化フィルム);±5 μm(用途依存)
- 装置効率:25–32 S/PCS(用途依存)
- 二重加熱溶接ステーション:温度範囲 常温~400 ℃;昇温率 ≤ 100 ℃/s
- フリップモジュール:180°反転搭載対応
- 供給互換性:2" GEL-PAK、2" WAFFLE-PAK、6" wafer ring、8" wafer ring
- 接合精度:適応型ノズル ±5 μm @3σ 搭載精度;±0.1° @3σ 回転精度