光学式検査機器 Phoenix PT/Micro

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製品説明
Phoenix PT/Micro（CIMS製）は、フィルムアートワークやガラスマスクなどの超微細ラインのフォトツールを検査するために設計されたAOIシステムです。ライン/スペース幅7 µmまでの検出に対応します。マスクは透過光で使用されるため、マスク検査に最適化された透過光経路を採用し、製造されたパネルへ転写される可能性のある欠陥を確実に検出します。高品位な画像取得とカスタマイズ可能な検出アルゴリズム、先進の処理ファームウェアを組み合わせることで最適な性能を実現します。Phoenix PT/MicroはSpark™により動作し、プラットフォーム横断の検出エンジンで高い検出率と低い誤検出率を提供します。

ハイライト

• 透明またはマットのガラステーブル
• 幅広いフレームに対応
• ガラスマスクとフィルムアートワークの両方に適合
• 堅牢な機械構造
• 作業者に配慮した人間工学的設計
• 高性能画像処理ファームウェア
• 大量データを処理する高性能プロセッサ
• 新しいジョブの迅速かつ直感的なセットアップ

オプション

• 複数サイズのガラスマスク用フレーム
• ユニバーサルフレームアダプタ
• 統合型高さトラッカー
• +2CD™ 測定機能 — 回路要素の2D測定
• CDB™/CDBIC™ — 欠陥分類と仮想欠陥マッピング

技術仕様

• モデル: Phoenix PT/Micro
• 用途: 超微細ラインのフォトツール（フィルムアートワークおよびガラスマスク）向けAOI
• 最小検出ライン/スペース: 7 µmまで
• 照明: マスク検査に最適化された透過光経路
• 検出エンジン: Spark™ プラットフォーム横断の検出エンジン
• 画像取得: 高品質な画像取得システム
• ソフトウェア: カスタマイズ可能な検出アルゴリズム、先進の処理ファームウェア
• 機械: 堅牢な構造、人間工学的設計、複数のフレームサイズに対応
• オプションの計測・分類: +2CD™ 測定、CDB™/CDBIC™